等离子体直写原子团簇沉积系统

产品概述 

纳米沉积喷印系统， 能够精准实现具有独特性能 的无机纳米结构材料的直写打印。采用高频热等离子 体纳米颗粒合成技术，利用等离子体高温、高能量密 度一步合成高纯纳米颗粒气溶胶，产生的气溶胶经极 高的压差环境由喷嘴形成加速簇束，以撞击沉积方式 沉积在基材上，沉积斑点可控，可进行图案化薄膜沉 积，实现多种无机纳米结构材料的直写打印。

产品参数

产率：0.01-200 mg/h

初始颗粒粒径： 1-50 nm

运行环境： 室温或低真空（0.1 mbar-0.01 mbar）

多气体兼容系统： 支持O2 、Ar、N2 、H2 、CH4等多种工艺气体， MFC控制

沉积材料种类： 金属、金属氧化物、碳化物、氮化物、硫化物等

基底尺寸： Max.20 cm×20 cm

最大沉积区域： 15 cm×15 cm

沉积涂层厚度： 100 nm-10 μm

斑点尺寸： 无掩模版 200 μm-1 cm/加掩模版 10 μm-200 μm

控制方式： PLC&人机控制界面

应用领域  

可广泛应用于催化剂、气体传感器、电催化剂、电子器件、新能源、极端环境服役材料等领域