等离子清洗/处理设备

产品概述 

等离子清洗/处理设备是一种利用等离子体技术对材料表面进行高效清洁、活化和改性的先进设备。通过气体放电生成高活性粒子，可去除材料表面有机污染物、氧化物及微小颗粒，同时改善材料表面附着力、亲水性或疏水性，广泛应用 于半导体、光学、医疗、汽车、电子封装、新能 源等领域。

核心技术   

低温等离子体技术：采用射频（RF）激励，在真空环境下通过辉光放电产生低温等离子体，避免材料热损伤。

多气体兼容系统：支持 O2 、Ar、N2等多种工艺气体，适配不同清洗、处理需求。

智能控制：实现自动化操作，可调节功率、气压、处理时间等参数

技术参数  

低温等离子体技术： 采用射频（RF）激励，在真空环境下通过辉光放电产生低温等离子体，避免材料热损伤。

多气体兼容系统： 支持 O2 、Ar、N2等多种工艺气体，适配不同清洗、处理需求。

智能控制： 实现自动化操作，可调节功率、气压、处理时间等参数

服务支持    

1.提供工艺开发、设备调试及技术培训服务  2.支持定制化解决方案，满足特殊应用场景