原子层沉积设备（MNT-S系列 单腔型）

迈纳德

原子层沉积子系统

MNT-S系列

序号

名称

型号

数量

备注

1

原子层沉积系统主机

/

1套

2

反应腔

/

1套

3

前驱体源输送系统

（常温液源、加热源、载气辅助源）

/

1套

4

真空系统

/

1套

5

备品备件

/

1套

1）适用于4-8英寸以及小尺寸样品薄膜沉积；设备本底真空优于5 Pa,设备漏率≤ 5×10-10Pa·m3/s；

2）控制方式：PLC+触摸屏；

3）多种沉积模式：快速模式、充分暴露模式和多元掺杂模式；

（2）反应腔系统

1）反应腔材质为316L不锈钢，底座整块材料加工，腔体表面抛光后电解；采用燕尾槽密封并配备耐腐蚀密封圈；

2）样品台加热温度最高可达 400℃，采用 PID 控制方式，控制精度为±1℃；

3）反应腔配备自动充气及过压保护功能；

（3）前驱体源输送系统

1）前驱体源输送数4-6路；前驱体源输送管路加热温度范围RT-250℃，控温±1℃；

2）常温源配备ALD专用阀门、源手动阀、不锈钢源瓶(50 mL)；

3）加热液源配备ALD专用阀门、源手动阀、不锈钢源瓶(50 mL)，源瓶温度范围RT-200℃；

4）载气辅助源配备ALD专用阀门、载气脉冲ALD阀门、源手动阀(耐温121℃)、MFC（量程0-100 sccm)，不锈钢源瓶(100 mL)；

5）管路及接头均采用 316 EP 级电解抛光不锈钢材料，所有气体管路连接处采用金属 VCR 密封；载气管路采用 N2或者 Ar 气体，通过 MFC 控制；配备惰性气体自清洗系统，在控制界面中可以设置自动清洗的次数；

6）其他规格可定制；

（4）真空系统

1）干泵抽速不低于 20 m3/h；

2）真空测量：配备进口压力传感器，检测范围为5*10-4-1000 mbar；

3）真空抽气管道可以烘烤至150℃，且真空泵前级配置热阱，温度范围RT-300℃，控制精度±1℃；

（5）控制系统

1）采用高稳定的PLC+工业触摸屏控制方式；触摸屏尺寸不小于15.6英寸；

2）PLC采用工业以太网控制方式，支持灵活扩展DeviceNet、CANopen、PROFIBUS DP等通信方式；

3）系统可实现配方编辑、保存、读取等功能；ALD阀门及管路具备自动排空和清洗功能；

4）系统设有高级界面，可进行温度PID参数自整定、前驱体标签修改等；

5）系统可实时监测动力气体压力值、系统压力值、加热状态、阀门开关状态和镀膜进度，当发生异常时触发报警并做出响应，报警日志可进行回看；