等离子体处理系统(Plasma System)

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Plassma System (Single)

发布:33 来源:MNT 发布日期:2020-03-01 23:43

等离子体原子层系统(MNT-PS系列)


衬底尺寸:4-8英寸

衬底温度:RT- 400度,控制精度:±1℃

源容器温度:RT-200 oC; ±1 oC

真空反应腔:316不锈钢腔体或者进口阳极氧化铝

前驱体输送系统:4-8路(可选配液源、固源和气源)

沉积模式:快速模式、高纵深比模式和专业掺杂模式

等离子体功率:500W 

等离子体产生方式:CCP 

等离子体气体:O2、N2、NH3、H2


小 等离子体增强型(MNT-P系列).jpg

选配

可选配臭氧发生器、膜厚原位在线测量、通风橱、手套箱、泵前吸附(热吸附、化学吸附及粉尘吸附等)、冷阱、尾气处理器等



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